深圳市梦启半导体装备有限公司

单面CMP抛光机

型号:DL-855/4P

该设备为单面平面化学抛光,采用先进的机械结构和多种先进控制方法,抛光加工效率高,运行稳定。

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单面CMP抛光机
设备优势

> 本设备为单面精密抛光设备,采用先进的机械结构和多种先进控制方法,抛光加工效率高,运行稳定


> 整机采用PLC+触摸屏控制系统,设备参数设置和操作简单方便,系统运行稳定性高


> 主电机采用变频调速控制,实现主机软启动、软停机降低设备运行冲击,减少工件损伤


> 工件抛光压力采用气缸加压方式,通过电气比例阀控制实现压力的闭环控制,保证极高的施压精度与稳定性


> 上压盘采用主动驱动方式,在确保产品撤光速率的前提下保证各工位抛光加工的统一性


> 抛光盘与上压盘都设置了冷却水冷却功能,在保证抛光液发挥最大效率的同时减少抛光盘面的变形

性能参数

CMP抛光机参数_画板 1.jpg

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TAG标签:单面抛光机晶圆抛光机软抛机精密抛光机